采用溫控儀表或PLC控制系統。
圓桶式熔缸設計底盤(pán)輻射加熱方式，具有加熱面積均勻的優(yōu)點(diǎn),減少因局部溫度過(guò)高而導致的碳化現象。
采用溫控儀表或PLC控制系統。
圓桶式熔缸設計底盤(pán)輻射加熱方式，具有加熱面積均勻的優(yōu)點(diǎn),減少因局部溫度過(guò)高而導致的碳化現象。
采用溫控儀表或PLC控制系統。
圓桶式熔缸設計底盤(pán)輻射加熱方式，具有加熱面積均勻的優(yōu)點(diǎn),減少因局部溫度過(guò)高而導致的碳化現象。
采用溫控儀表或PLC控制系統。
圓桶式熔缸設計底盤(pán)輻射加熱方式，具有加熱面積均勻的優(yōu)點(diǎn),減少因局部溫度過(guò)高而導致的碳化現象。
采用溫控儀表或PLC控制系統。
圓桶式熔缸設計底盤(pán)輻射加熱方式，具有加熱面積均勻的優(yōu)點(diǎn),減少因局部溫度過(guò)高而導致的碳化現象。
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